从国产DUV设备到开放模型，中国持续聚焦AI自主化布局

拓墣观点： 2026年7月底，外媒报导中国正推进193nm浸润式(Immersion) DUV光刻机研发与导入验证。于此期间，亦有新创陆企月之暗面推出Kimi K3并开放模型权重。2事件雖分屬不同技術領域，且成熟度與確定性存在差異，但皆反映中國正透過軟硬體生態建設，提高AI[...]

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全球Micro LED CPO联盟一览表

2026年光通讯市场趋势：(1) Wide and Slow：受到生成式AI兴起，高速光通讯需求急遽提升，Micro LED能耗仅1～2pJ/bit、资料传输密度高达2Tbps/mm2，且具有≤ [...]